[发明专利]1,4-二烯体系的位点特异性同位素标记在审
| 申请号： | 202110499479.8 | 申请日： | 2016-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN113214084A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 德拉斯拉夫·维多维克;米哈伊尔·谢尔盖维奇·什彻皮诺夫 | 申请（专利权）人： | 乐巢拓普有限公司 |
| 主分类号： | C07C69/587 | 分类号： | C07C69/587;C07C67/30;C07B59/00;A61K31/232;A61K31/231;A61P39/06;A61P25/00;A61P21/00;A61P9/10;A61P27/02;A61P3/00;A61P1/16;A61P13/12;A61P3/06 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;安佳宁 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 由未经同位素修饰的1,4‑二烯制备同位素修饰的1,4‑二烯体系的方法涉及选择性氧化一个或多个双烯丙基位置，或通过用氘源或氚源捕获π‑烯丙基配合物来制备同位素修饰的1,4‑二烯体系。这些方法可用于制备同位素修饰的包括多不饱和脂肪酸和多不饱和脂肪酸衍生物在内的多不饱和脂质。 | ||
| 搜索关键词： | 体系 特异性 同位素标记 | ||
【主权项】：
暂无信息
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