[发明专利]一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法在审

专利信息
申请号: 202110501032.X 申请日: 2021-05-08
公开(公告)号: CN113235092A 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 李红琴;江泱;杨红光 申请(专利权)人: 九江德福科技股份有限公司
主分类号: C23F1/34 分类号: C23F1/34;G01N1/32
代理公司: 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 代理人: 刘艳艳
地址: 332000 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种用于铜箔切片观察的微蚀液及其配制方法与微蚀方法,该微蚀液的配制方法为:用去离子水将氯化铵固体溶解,继续边搅拌边加入浓氨水定容,得到pH=10的氨缓冲液;取pH=10的氨缓冲液,加入双氧水,得到微蚀液。本发明的微蚀液通过将氯化铵加入到氨水和双氧水的水溶液中,NH4+在溶液中起缓冲作用,能有效抑制氨水对铜的过度蚀刻作用,防止铜被咬蚀而出现氧化、异色等影响切片观察的现象,通过本发明所配制的微蚀液,处理PCB铜箔、锂电铜箔、覆铜板等铜材料制作的切片表面,用于观察铜牙、量测铜厚等存在明显的优势。
搜索关键词: 一种 用于 铜箔 切片 观察 微蚀液 及其 配制 方法
【主权项】:
暂无信息
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