[发明专利]光学元件的高效清洗工艺在审
申请号: | 202110506808.7 | 申请日: | 2021-05-10 |
公开(公告)号: | CN113210349A | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 陈吕勇;马登超;步雪斌;阎国安 | 申请(专利权)人: | 南通瑞景光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B3/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,清洗90‑150s;2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽,清洗60‑90s;3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;清洗90‑150s;4)清水漂洗;5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;清洗90‑150s;6)清水漂洗;7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 高效 清洗 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通瑞景光电科技有限公司,未经南通瑞景光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110506808.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。