[发明专利]光学元件的高效清洗工艺在审

专利信息
申请号: 202110506808.7 申请日: 2021-05-10
公开(公告)号: CN113210349A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 陈吕勇;马登超;步雪斌;阎国安 申请(专利权)人: 南通瑞景光电科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226000 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了光学元件的高效清洗工艺,采用超声波清洗设备进行清洗,将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后,后脱水干燥,具体步骤如下:1)在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物,清洗90‑150s;2)经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽,清洗60‑90s;3)在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A;清洗90‑150s;4)清水漂洗;5)在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B;清洗90‑150s;6)清水漂洗;7)将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明具有的清洗时间短,清洗效果好和生产效率高等特点。
搜索关键词: 光学 元件 高效 清洗 工艺
【主权项】:
暂无信息
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