[发明专利]一种集成无源器件的半导体装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110511063.3 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113257842A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 陈立均;代文亮;李苏萍 申请(专利权)人: 上海芯波电子科技有限公司
主分类号: H01L27/13 分类号: H01L27/13;H01L49/02;H01L21/84;H01L23/485;H01L23/482;H01L21/60
代理公司: 上海乐泓专利代理事务所(普通合伙) 31385 代理人: 王瑞
地址: 200000 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种集成无源器件的半导体装置,包括:衬底;至少一个集成无源装置,其包括形成于衬底表面的电阻、电容或电感中的一种或多个;重布线层,其在衬底设置至少一个集成无源装置的表面设置;其中,重布线层包括至少一层金属层以形成层绕制电感。本发明通过将现有的半导体集成无源器件工艺与封装RDL(重布线层)工艺相结合,突破了集成电路成熟工艺厚金属层有限,且金属厚度有限的限制,与RDL工艺的结合增加1‑3层的可布线金属层并且金属厚度可较厚,形成了更为丰富的叠层结构,从而实现层绕制电感及连接布线功能,提升了无源集成器件的设计灵活性,提高了集成无源器件的性能和集成度。
搜索关键词: 一种 集成 无源 器件 半导体 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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