[发明专利]一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法有效
| 申请号： | 202110511479.5 | 申请日： | 2021-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN113204079B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 代俊;张崇飞;谢晋;王齐伟;熊壮;唐彬;刘莹;邵瑞文;董伟康 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G02B6/35 | 分类号： | G02B6/35;G06F30/23 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种MOEMS光开关抗高过载结构的网格设计方法。包括以下内容：MOEMS光开关由器件层(包括输入光纤、输出光纤、可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构)、埋氧层和衬底层组成。衬底层被设计成镂空的网格状结构，在不影响器件层可动式微镜运动的前提下为器件层提供一种限位止挡结构，当MOEMS光开关受到垂直于器件层表面的高过载冲击时，衬底层的网格状结构可以限制可动式微镜、电热保险机构和电热驱动机构该方向上的运动，防止其因为变形过大而发生断裂，对器件层起到了限位保护作用。本发明要解决的技术问题为：提高MOEMS光开关的抗高过载能力，具有以下优点：(1)抗过载能力强；(2)结构尺寸小；(3)工作稳定、可靠性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 moems 开关 过载 结构 网格 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学，未经北京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110511479.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
