[发明专利]以HX为卤源的远端卤代烷基酮及其合成方法有效
申请号: | 202110516201.7 | 申请日: | 2021-05-12 |
公开(公告)号: | CN113277935B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 郭丽娜;段新华;刘帅;白铭 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C07C49/80 | 分类号: | C07C49/80;C07C45/53;C07C45/79 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 弋才富 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 以HX为卤源的远端卤代烷基酮及其合成方法,氮气氛围下加入环烷基过氧醇和醋酸铜催化剂,再加入HCl、HBr、以及HI溶液作为卤素,常温下搅拌;反应结束后,加入足量的水萃取反应溶剂N‑甲基吡咯烷酮,用饱和食盐水洗涤,最后有机相用无水硫酸钠干燥,将有机相减压浓缩,除去溶剂;将有机相进行柱层析得到目标产物;本发明以工业大宗类原料HCl、HBr、以及HI溶液作为卤素来源,实现C‑C键裂解的自由基卤代,以较高的收率得到远端卤代烷基烷基酮类化合物。反应的副产物是水,减少了环境污染,大大提高了工业生产效益。 | ||
搜索关键词: | hx 远端 烷基 及其 合成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110516201.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。