[发明专利]一种半导体ETCH设备静电吸盘部品陶瓷表面洗净方法在审
| 申请号： | 202110516731.1 | 申请日： | 2021-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN113289959A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 汤高;贺贤汉;王云鹏;杨炜;张正伟;蒋立峰 | 申请（专利权）人： | 上海富乐德智能科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 赵建敏 |
| 地址： | 200444 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种半导体ETCH设备静电吸盘部品陶瓷表面洗净方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，双氧水溶液浸泡，纯水冲洗去除残留药液；步骤二，热水浸泡，疏松陶瓷表面的沉积膜层；步骤三，氨水双氧水溶液浸泡，纯水冲洗去除残留药液；步骤四，硝氟酸溶液擦洗，汽水枪冲洗去除残留药液；步骤五，超声清洗，利用超声波去除陶瓷表面附着的颗粒物；步骤六，无尘烘箱烘干。本发明可以去除干净静电吸盘部品陶瓷表面的沉积膜，以及氦气孔洞内的沉积物，满足静电吸盘部品陶瓷表面的洗净再生要求的清洗方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 etch 设备 静电 吸盘 陶瓷 表面 洗净 方法 | ||
【主权项】：
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