[发明专利]半导体装置和制造半导体装置的方法在审

专利信息
申请号: 202110517428.3 申请日: 2021-05-12
公开(公告)号: CN113675227A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 辛基东;朴东久;金进勇 申请(专利权)人: 安靠科技新加坡控股私人有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京寰华知识产权代理有限公司 11408 代理人: 何尤玉;郭仁建
地址: 新加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体装置和制造半导体装置的方法。一种半导体装置,包括:间隔件衬底,包括:间隔件电介质;间隔件顶部端子,在间隔件衬底的顶侧上;间隔件底部端子,在间隔件衬底的底侧上;及间隔件通孔,在间隔件电介质中且与间隔件顶部端子和间隔件底部端子耦合;第一透镜衬底,在第一间隔件衬底上方,第一透镜衬底包括:第一透镜电介质;第一透镜;第一透镜顶部端子,在第一透镜电介质的顶侧上;第一透镜底部端子,在第一透镜电介质的底侧上;及第一透镜通孔,在第一透镜电介质中且与第一透镜顶部端子和第一透镜底部端子耦合;透镜保护器,在第一透镜电介质上方邻近于第一透镜;及第一互连件,与间隔件顶部端子和第一透镜底部端子耦合。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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