[发明专利]一种多沟道增强型氧化镓结型场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 202110521158.3 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN113257922B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 罗小蓉;鲁娟;魏雨夕;魏杰;蒋卓林;杨可萌 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/24;H01L29/10
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于功率半导体技术领域,涉及一种多沟道增强型氧化镓结型场效应晶体管(Ga2O3JFET)。本发明的主要特征是引入能与N型氧化镓形成PN异质结的P型氧化物使Ga2O3增强型JFET得以实现,同时器件漂移区上部两侧沿纵向方向分段的P氧化物栅区及横向两侧P氧化物栅区之间的P氧化物区可使Ga2O3JFET相较常规JFET器件,正向导通时具有多沟道,反向耐压时电场分布调制,从而器件在实现增强型的同时,兼具低导通电阻、高耐压和高可靠性,进一步发挥氧化镓材料的优势。
搜索关键词: 一种 沟道 增强 氧化 镓结型 场效应 晶体管
【主权项】:
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