[发明专利]一种多沟道增强型氧化镓结型场效应晶体管有效
申请号: | 202110521158.3 | 申请日: | 2021-05-13 |
公开(公告)号: | CN113257922B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 罗小蓉;鲁娟;魏雨夕;魏杰;蒋卓林;杨可萌 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/24;H01L29/10 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 孙一峰 |
地址: | 611731 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: |
本发明属于功率半导体技术领域,涉及一种多沟道增强型氧化镓结型场效应晶体管(Ga |
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搜索关键词: | 一种 沟道 增强 氧化 镓结型 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
暂无信息
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