[发明专利]一种念珠状材料填充的混合基质膜的制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110526253.2 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN113385043B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 李雪琴;李珑;黄路;吕侠;王江南;梁朝 申请(专利权)人: 石河子大学
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;B01D69/12;B01D53/22
代理公司: 新疆知产力专利代理事务所(特殊普通合伙) 65113 代理人: 李凌云
地址: 832003 新疆维*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明公开了一种念珠状材料填充的混合基质膜的制备方法和应用,涉及混合基质膜技术领域。本发明用PSS‑ZIF填充Pebax制备混合基质膜,该混合基质膜的厚度100~130μm,它由质量分数为3 wt.%~9 wt.%的PSS‑ZIF和91%~97%的Pebax® 1657组成;PSS‑ZIF填充Pebax制备混合基质膜的制备方法,包括Step1;PSS‑ZIF的制备:①、将Zn(NO3)2·6H2O和氨基乙醇混合后进行反应,得到纳米氢氧化锌(ZHNs)溶液;②、基于上述溶液,将ZHNs与聚苯乙烯磺酸钠(PSS)进行反应,制备得到PSS‑ZIF;本发明方法制备的Pebax/PSS‑ZIF混合基质膜用于分离CO2/CH4混合气(v/v,20:80),显示所制备的混合基质膜具有高渗透率和高分离因子。
搜索关键词: 一种 念珠 材料 填充 混合 基质 制备 方法 应用
【主权项】:
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