[发明专利]基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置在审

专利信息
申请号: 202110529251.9 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN113340212A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 魏相宇;唐锋;王向朝;郭福东;冯鹏;陈梦来 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所;上海精测半导体技术有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01B11/24;G01B9/02
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置,通过在一侧干涉仪光路中加入相干性抑制单元,使得对侧干涉仪的输出光与本侧干涉仪的测量光、参考光不相干,不能发生干涉;或对侧干涉仪输出光与本侧干涉仪测量光、参考光等效不发生干涉,仅产生背景直流量,不影响干涉相位的提取。本发明不改变双侧干涉仪系统的光路结构,有效利用了光学系统的数值孔径,简化了系统工作流程,具有测量精度与效率高,分光方式灵活等优点。
搜索关键词: 基于 干涉仪 形貌 厚度 检测 装置
【主权项】:
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