[发明专利]一种中空二氧化硅粉体填料的制备方法、由此得到的粉体填料及其应用在审

专利信息
申请号: 202110530203.1 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN113248943A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 李文;田堃;于浩;方袁烽 申请(专利权)人: 浙江三时纪新材科技有限公司
主分类号: C09C1/30 分类号: C09C1/30;C09C3/04;C08K9/06;C08K7/26
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 宋丽荣
地址: 313000 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种中空二氧化硅粉体填料的制备方法,其包括提供纯度≥99.5%且软化温度≥1600度的无定形二氧化硅粉体;将无定形二氧化硅粉体造粒得造粒粉体,无定形二氧化硅粉体的平均粒径≤造粒粉体的平均粒径/7;将造粒粉体在2000度以上的温度下进行火焰熔融球化,首先仅表面形成封闭熔融层,然后内部二氧化硅的熔融使得封闭熔融层增厚得平均粒径0.5~100微米且比重0.6~1.8的中空二氧化硅粉体填料。本发明还提供由上述制备方法得到的中空二氧化硅粉体填料。本发明又提供上述中空二氧化硅粉体填料的应用。根据本发明的中空二氧化硅粉体填料,通过在二氧化硅内部导入气孔以降低介电损失和介电常数。
搜索关键词: 一种 中空 二氧化硅 填料 制备 方法 由此 得到 及其 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江三时纪新材科技有限公司,未经浙江三时纪新材科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110530203.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top