[发明专利]液晶透镜阵列器件、成像装置及成像方法有效

专利信息
申请号: 202110530599.X 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN113219758B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 叶茂;陈晓西;王思聪;晁晨 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02F1/29 分类号: G02F1/29;G02F1/13;G02F1/1343
代理公司: 成都恪睿信专利代理事务所(普通合伙) 51303 代理人: 张竞
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明实施例公开液晶透镜阵列器件、成像装置及成像方法。液晶透镜阵列器件包括:第一阵列电极、第二阵列电极以及液晶层。第一阵列电极包括多个第一电极对,第二阵列电极包括多个第二电极对,第一阵列电极的第一电极对在参考平面上的投影与第二阵列电极的第二电极对部分交叠,参考平面与液晶层的平面平行,第一电极对包括第一电极和第二电极,第二电极对包括第三电极和第四电极,当在T1时刻形成第一液晶透镜阵列时,第一电极施加第一电压,第二电极施加第二电压,第二电极对作为公共电极;当在T2时刻形成第二液晶透镜阵列时,第二电极对的第三电极施加第一电压,第四电极施加第二电压,第一电极对作为公共电极。本发明具有高占空比的优点。
搜索关键词: 液晶 透镜 阵列 器件 成像 装置 方法
【主权项】:
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