[发明专利]一种三维大孔PVDF基抗污型分子印迹膜的制备方法及应用有效
| 申请号： | 202110535882.1 | 申请日： | 2021-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN113318602B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 卢健;尹太文;秦莹莹;陈沐宁;吴易霖;孟敏佳;李春香;闫永胜 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/02;B01D69/12;B01D71/34;B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;B01D15/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属功能材料制备技术领域，具体涉及一种三维大孔PVDF基抗污型分子印迹膜的制备方法及应用；制备步骤为：将聚偏氟乙烯与β‑环糊精和多巴胺相结合，利用高温熔融制膜过程实现一锅法构建三维大孔PVDF基抗污型复合膜，以宏观“类点阵”分布的聚多巴胺为次级反应平台，结合“巯基‑烯”点击反应制得三维大孔PVDF基抗污型分子印迹膜；本发明制备的三维大孔PVDF基抗污型分子印迹膜有效解决了现有抗污型分子印迹膜制备过程繁琐、抗污效果不佳、抗污性与选择性相互制约等不足，并对环丙沙星具有良好的特异性识别和分离性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三维 pvdf 基抗污型 分子 印迹 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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