[发明专利]研磨系统及研磨方法在审
| 申请号： | 202110536151.9 | 申请日： | 2021-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN113199393A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 闵源;徐永 | 申请（专利权）人： | 广州粤芯半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34;B24B53/017;B24B37/015;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 罗磊 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨系统和研磨方法。所述研磨系统包括研磨装置和清洗液供给装置，所述研磨装置具有研磨垫，所述清洗液供给装置用于提供清洗研磨垫的清洗液；其中，清洗液供给装置包括加热控制单元，所述加热控制单元用于调控清洗液的温度，使得注入到研磨垫上的清洗液的温度在高于室温的设定温度范围内。利用该清洗液供给装置提供的高于室温的清洗液清洗研磨垫，可以有效去除研磨垫表面的残留物，有助于提高清洁效果和研磨质量。所述研磨方法采用上述的研磨系统，在清洗前将清洗液的温度调控到高于室温的设定温度范围内，可以有效去除研磨垫表面的残留物，有助于提高清洁效果和研磨质量。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 系统 方法 | ||
【主权项】：
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