[发明专利]超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法有效
| 申请号： | 202110538166.9 | 申请日： | 2021-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN113211337B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 李祥彪;仲崇贵 | 申请（专利权）人： | 南通大学 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 任志艳 |
| 地址： | 226019 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法，属于衬底加工技术。本发明提出了一种新型衬底片抛光用抛光盘制备方法，通过使用多层复合抛光盘，对衬底片进行精密抛光，与传统衬底片抛光工艺相比极大的简化了工艺流程，获得面型较好的衬底抛光片，抛光后的衬底片平均厚度差小，弯曲翘曲度低。本方法工艺简单易操作。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 抛光 制备 方法 精密 | ||
【主权项】：
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