[发明专利]异质结双极晶体管在审
申请号: | 202110539770.3 | 申请日: | 2018-02-22 |
公开(公告)号: | CN113421918A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 梅本康成;小屋茂树;大部功 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H01L29/737 | 分类号: | H01L29/737;H01L29/417;H01L29/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 舒艳君;王海奇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种能够维持较高的线性效率以及较高的线性输出的异质结双极晶体管。HBT的集电极层包含高浓度集电极层和配置于其上的低浓度集电极层。低浓度集电极层包含随着远离基极层而能带隙变窄地变化的渐变集电极层。基极层的半导体材料的电子亲和力比渐变集电极层的能带隙最大的位置处的半导体材料的电子亲和力大,它们的差为0.15eV以下。渐变集电极层具有在使电场强度变化时,在某个电场强度下电子的移动速度示出峰值的特性。由渐变集电极层的能带隙的变化引起而作用于电子的伪电场的强度是电子的移动速度示出峰值的电场强度亦即峰值电场强度的0.3倍以上1.8倍以下。 | ||
搜索关键词: | 异质结 双极晶体管 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110539770.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类