[发明专利]一种基于介质基超构材料的F-P腔天线及电子设备有效

专利信息
申请号: 202110542444.8 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113285233B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 张富利;蔡伟奇;樊元成;付全红;杨蕤生;杨帆 申请(专利权)人: 西北工业大学深圳研究院;西北工业大学
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q15/14
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 屠沛
地址: 518057 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种基于介质基超构材料的F‑P腔天线及电子设备,解决传统腔天线体积大、工作频率难以调节的问题。一种基于介质基超构材料的F‑P腔天线包括平行设置的上基板和下基板;上基板和下基板构成一个腔体,且两者之间的距离可调;上基板的上表面设置有近零折射结构覆层,下表面设置有介质基相位调控反射层;其中,介质基相位调控反射层包括周期性排列的介质基相位调控反射单元;下基板的上表面设置有馈源天线和金属基相位调控反射层,下表面设置有金属地板结构;馈源天线位于中部,金属基相位调控反射层位于馈源天线的外侧;金属基相位调控反射层包括周期性排列的金属贴片。
搜索关键词: 一种 基于 介质 基超构 材料 天线 电子设备
【主权项】:
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