[发明专利]掩膜装置及蒸镀方法有效
| 申请号： | 202110544680.3 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113278918B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 齐英旭;王亚;卓林海;田斌;郭宏伟;于上智 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人： | 唐维虎 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例所提供的掩膜装置及蒸镀方法，掩膜装置的掩膜本体的表面开设有朝掩膜装置的图形区域方向延伸的沟槽，且沟槽靠近图形区域的一端具有用于对蒸镀材料进行阻隔的封堵部。如此设计，在掩膜装置与阵列基板完成蒸镀对位之后，封堵部可以避免在蒸镀时蒸镀材料通过沟槽蒸镀到阵列基板的功能组件上，进而避免功能组件出现剥离，避免阵列基板报废，确保后续能够进行相关膜层制作，提高显示设备的成品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
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