[发明专利]一种高功率密度IGZO薄膜晶体管在审
| 申请号： | 202110544979.9 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113270479A | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 吴汪然;俞祚旭;杨光安;孙伟锋;时龙兴 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/423;H01L29/51;H01L29/786 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 沈廉 |
| 地址： | 211189 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种高功率密度IGZO薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括：第一基底、第二基底；第二基底位于第一基底上；栅电极，位于所述第二基底上；第一层栅介电层位于所述栅电极之上的一端；第二层栅介电层位于所述栅电极之上，其一端覆盖住第一层栅介电层，二者构成“阶梯型”栅介电层；铟镓锌氧化物IGZO有源层，位于所述“阶梯型”栅介电层上并覆盖住第一层栅介电层和第二层栅介电层；第一源电极、第二漏电极，位于铟镓锌氧化物IGZO有源层上相对两侧，其中第二漏电极位于第一层栅介电层之上方一侧，第一源电极位于远离第一层栅介电层的另一侧。与传统的提升薄膜晶体管栅介电层尺寸的方法相比，该薄膜晶体管可以显著提升功率密度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 功率密度 igzo 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
暂无信息
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