[发明专利]用于防污的自清洁基材表面涂层及其制造方法在审
| 申请号： | 202110545059.9 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113337794A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 张平;吴琼;徐晓兰;陈永红 | 申请（专利权）人： | 重庆慧雍应用技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/12;C23C14/24;B05D1/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 聂红霞 |
| 地址： | 400040 重庆市渝*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于防污的自清洁基材表面涂层及其制造方法，属于新材料涂层技术领域，具体涉及自清洁基材表面涂层技术领域，以解决现有技术中在提高涂料耐污性能方面还存在一定局限性的缺陷，包括如下步骤：将基材用酒精清洗2‑3次后晾干；打开精密激光微孔机，将晾干后的基材置于工作台，对基材连续打孔；将打孔后的基材用盐酸清洗，再分别用去离子水和酒精冲洗，烘干备用；在真空条件下，将高分子化合物作为靶材，通过热蒸发的方式对烘干后的基材镀膜处理。由于该高分子化合物自身张力很小，水滴在自身的表面张力作用下只能形成水球，在滚动中吸附灰尘，并滚出基材表面，不会在基材表面形成水渍，从而达到保持基材表面清洁的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 防污 清洁 基材 表面 涂层 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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