[发明专利]GC-IMS和荧光光谱联用检测产黄曲霉毒素真菌污染的方法在审

专利信息
申请号: 202110547668.8 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN113341005A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 王俊;顾双 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01N30/02 分类号: G01N30/02;G01N30/06;G01N30/32;G01N30/74;G01N30/86
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林松海
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种GC‑IMS和荧光光谱联用检测产黄曲霉毒素真菌污染的方法,包括如下步骤:样品处理,GC‑IMS检测,荧光光谱检测,GC‑IMS谱图特征区域选取,荧光光谱特征区域选取,GC‑IMS和荧光光谱检测的数据特征提取和融合,对提取的特征数据分别进行主成分分析分析,随后提取两种数据源的PCA前十维主成分作为新型特征向量直接组合在一起,形成融合数据;将融合后的数据进行正交偏最小二乘判别,将特征融合后的数据输入到正交偏最小二乘判别模型中,由融合信号的测试集样本数据特征值作为输入,通过正交偏最小二乘判别算法获得最终的分类模型,从而应用于未知样本的检测。此方法简单易操作,减少了运算成本,也具有较好的分类性能,具有较高的推广利用价值。
搜索关键词: gc ims 荧光 光谱 联用 检测 黄曲霉 毒素 真菌 污染 方法
【主权项】:
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