[发明专利]远红外线感测元件及制造方法与感测介电层厚度决定方法在审

专利信息
申请号: 202110550343.5 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN115394753A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 蔡明翰;胡志帆 申请(专利权)人: 原相科技股份有限公司
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538;H01L27/16;H01L21/768;G01B11/06
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种远红外线感测元件及制造方法与感测介电层厚度决定方法。该远红外线感测元件形成于一基板上,该远红外线感测元件包含:一感测区,形成于该基板上,该感测区用以感测远红外线信号;以及一感测介电层,形成于该感测区上,具有一感测介电层厚度,且该感测介电层厚度由一牺牲金属层所决定。
搜索关键词: 红外线 元件 制造 方法 感测介电层 厚度 决定
【主权项】:
暂无信息
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