[发明专利]一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构在审
| 申请号： | 202110553754.X | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113217632A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 陈源;陈凯;李孝禄;王冰清;李运堂;彭旭东 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | F16J15/40 | 分类号： | F16J15/40;F16J15/3244;F16J15/3268;F16J15/3284;F16J15/3292 |
| 代理公司： | 台州杭欣专利代理事务所(普通合伙) 33333 | 代理人： | 潘欣欣 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构，包括环本体，环本体上由内向外依次设置有第一圆形凹面、第一圆形台阶、第二圆形凹面和第二圆形台阶。第一密封坝，第一密封坝包括内侧鼓泡箔片和第一环状盖体；内侧鼓泡箔片首尾相接沿周向分别均匀铺设在第一圆形凹面上，上方第一环状盖体。第二密封坝，第二密封坝包括外侧鼓泡箔片和第二环状盖体；外侧鼓泡箔片沿周向铺设在第二圆形凹面上，上方插入第二环状盖体，第二环状盖体上表面设有动压槽，中部箔片机构，中部箔片机构设置在第一圆形台阶上。本发明可以有效的提升弹性箔片端面气膜密封结构的抗冲击能力。内外双重浮动密封坝结构有利于改善密封的控漏能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 压低 泄漏 端面 密封 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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