[发明专利]光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置在审
| 申请号： | 202110553769.6 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113696494A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 三浦秀宣;门英昭;宫村勋;石渡和孝;大泷雅士;久米悦夫;仓本贤尚 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | B29C65/48 | 分类号： | B29C65/48;B29C65/16;G02B5/30;B29L7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供可以减少辊的表面的宽度方向的温度不均、从而减少贴合膜的品质的问题的光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置。光学层叠体的制造方法具备：贴合工序和特定的活化处理工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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