[发明专利]光阻材料、彩膜基板、彩膜基板的制备方法和显示装置在审
| 申请号： | 202110553851.9 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113257131A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 李晓光;冯贺;郭鲁强 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;G02B5/20;G02B1/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 王春艳 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开一种光阻材料、彩膜基板、彩膜基板的制备方法和显示装置，制备所述光阻材料的原料包括：光阻色浆和双折射粒子，其中，所述双折射粒子由双折射材料制成。通过本申请提供的光阻材料制备彩膜基板的光阻单元，背光源向光阻单元发出光，光阻单元可以仅允许目标光谱通过色阻单元形成单色光谱，无法通过光阻单元的光会被光阻材料中的双折射粒子进行反射，被反射的光重新返回至背光源处，再次进行反射即可得到再次利用，能够提高背光的利用效率，进而提高光效利用率，有利于提高显示装置的整体透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 彩膜基板 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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