[发明专利]一种高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正的方法有效
申请号: | 202110558253.0 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN113311449B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 白杰;牛铮;高帅;毕恺艺;黄滟茹;张昌赛;孙刚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院空天信息创新研究院 |
主分类号: | G01S17/88 | 分类号: | G01S17/88;G01S17/89;G01S7/48 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;陈亮 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正的方法,使用高光谱激光雷达测量被测植被叶片样本在不同波长和不同入射角下的回波强度数据;在同时考虑波长和入射角对漫反射比例因子和表面粗糙度影响的前提下,对原始入射角效应公式进行修正;采用最小二乘法计算得到修正后的入射角效应公式中的两参数;依次迭代计算所有波长和入射角下的漫反射比例因子和表面粗糙度参数,并构建查找表;建立修正后的高光谱激光雷达植被叶片入射角效应校正公式;基于查找表和入射角效应校正公式,对其他波长和入射角下同种植被叶片的回波强度进行校正。该方法同时考虑了高光谱激光雷达波长和入射角对漫反射比例因子和表面粗糙度的影响,提高了校正效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 光谱 激光雷达 植被 叶片 入射角 效应 校正 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院空天信息创新研究院,未经中国科学院空天信息创新研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110558253.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。