[发明专利]一种应用于高功率半导体光源芯片的冷却热沉及叠阵在审

专利信息
申请号: 202110559225.0 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113300209A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 陈琅;李特;王贞福;于学成 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 史晓丽
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及半导体光电子技术领域,具体涉及一种应用于高功率半导体光源芯片的冷却热沉及叠阵,解决了现有冷却热沉换热能力不佳以及热量传递没有导引措的问题。该冷却热沉包括自上而下相互层叠设置的上密封叠片、上冷却叠片、导流叠片、下冷却叠片和下密封叠片。上冷却叠片上设置第三入水口、第二出水口、第四镂空微结构;第四镂空微结构内,且与导流叠片上导流结构相对应的位置设有热量导引片;采用铜或金刚石或碳化硅制作的热量导引片采用铜或金刚石或碳化硅制作,包括N个等距排布的筋条,N个等距排布的细筋条构成了N+1个微形通道,筋条的宽度尺寸和微形通道的宽度尺寸均为0.10mm。
搜索关键词: 一种 应用于 功率 半导体 光源 芯片 冷却
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