[发明专利]一种基于像差测量的差异化阵列光束波前校正器制备方法有效
| 申请号： | 202110559282.9 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113311580B | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 宁禹;何宇龙;孙全;习峰杰;许晓军 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 张丽娟;谭武艺 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于像差测量的差异化阵列光束波前校正器制备方法，包括以下步骤：测量包含多个子光束的阵列光束中各个子光束的畸变波前偏差，利用三维建模软件对一体化波前校正器进行三维建模，将模型导入到仿真软件进行仿真优化，判断校正器各子光束变形镜的变形量和共振频率是否满足设计要求，如果满足，记录镜体结构参数；否则，重新三维建模继续仿真优化，直至满足设计要求；根据镜体结构参数制备差异化波前校正器。本发明具有低成本、系统结构紧凑、设计量身定制、校正效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 测量 异化 阵列 光束 校正 制备 方法 | ||
【主权项】：
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