[发明专利]用于光刻胶组合物的酸抑制剂、制备方法及光刻胶组合物在审
| 申请号： | 202110559802.6 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113296360A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 陈慧;许翔 | 申请（专利权）人： | 上海邃铸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭国中 |
| 地址： | 201500 上海市金山*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻胶组合物的酸抑制剂，其酸度系数pKa值为8‑12，所述酸抑制剂的结构中含有氟原子，每摩尔酸抑制剂中含有氟原子的含量小于或等于6摩尔。此外，本发明还公开了一种制备上述的酸抑制剂的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：步骤A：将含有羟基的单体通过聚合反应得到相应的聚合物；步骤B:将步骤A所得的聚合物通过氟化反应得到所述的酸抑制剂。另外，本发明还公开了一种光刻胶组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 组合 抑制剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
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