[发明专利]小分子组合物、光刻胶组合物及在基板上形成图案的方法有效
| 申请号： | 202110559806.4 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113253569B | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | 陈慧;许翔 | 申请（专利权）人： | 上海邃铸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/38 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭国中 |
| 地址： | 201500 上海市金山*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开一种小分子光刻胶组合物，所述小分子光刻胶组合物包括下述组分：组分1，所述组分为式1结构，式1具体如下：#imgabs0#以及组分2，所述组分2为式2结构，式2具体如下：#imgabs1#此外，本发明还公开了一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物含上述的小分子组合物、光酸发生剂以及有机溶剂。此外，本发明还公开了一种在基板上形成图案的方法，所述方法包括以下步骤：步骤S1：在基板上涂布上述的光刻胶组合物的薄膜；步骤S2：将薄膜放置于掩膜及光源之下曝光后形成图案；步骤S3：在步骤S2形成图案后，使用碱性显影液进行显影操作。 | ||
| 搜索关键词： | 分子 组合 光刻 基板上 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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