[发明专利]一种含氟的光酸抑制剂的光刻胶在审
| 申请号： | 202110559808.3 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113253570A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 许翔 | 申请（专利权）人： | 上海邃铸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭国中 |
| 地址： | 201500 上海市金山*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种含氟的光酸抑制剂的光刻胶，所述树脂组合物中包括树脂A，树脂B以及光酸发生剂C，其中，所述树脂B包括含氟的光酸抑制剂D的结构单元，且所述树脂B的重均分子量小于所述树脂A的重均分子量。此外，本发明还公开了一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括上述的树脂组合物。本发明中通过使用含氟的酸抑制剂用于控制光刻胶中光酸发生剂的分布及总量，所述的含氟的酸抑制剂可以通过其末端基团和光刻胶中树脂单体共聚的方式联接，这样就可以获得分布均匀的含氟的酸抑制剂的光刻胶树脂，在曝光显影后就可以获得优良的曝光图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制剂 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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