[发明专利]一种基于二硫化铼的场效应管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110561315.3 申请日: 2021-05-22
公开(公告)号: CN113437144A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 赵桂娟;黄河源;邢树安;吕秀睿;茆邦耀;刘贵鹏 申请(专利权)人: 兰州大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/24;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 代理人: 张晋
地址: 730000 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于二硫化铼的场效应管及其制造方法,包括衬底,所述衬底包括硅衬底和生长在所述硅衬底上的氧化层,所述氧化层上刻蚀有二硫化铼沟道,所述场效应管还包括生长在源漏接触区的漏源电极、覆盖所述二硫化铼沟道的栅氧化层以及位于硅衬底底部的金属引线,所述栅氧化层上生长有栅电极,所述漏源电极包括依次位于所述氧化层之上的Cr电极和Au电极。本发明的场效应管具有较高的开关电流比,且有效降低了器件尺寸缩小带来短沟道效应,同时顶栅和背栅的结构也有助于源漏电流的调控。
搜索关键词: 一种 基于 硫化 场效应 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兰州大学,未经兰州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110561315.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top