[发明专利]清洗组成物在审
| 申请号： | 202110564251.2 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN113444581A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 崔骥;洪伟伦;黄俊程;孙旭昌;陈科维 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/00 | 分类号： | C11D1/00;C11D1/14;C11D1/22;C11D1/62;C11D1/66;C11D1/72;C11D1/75;C11D1/82;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/24;C11D3/37;C11D3/26;C11D3/30;C11 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种清洗组成物，用于化学机械研磨制程后，清洗包含硅锗的基板表面。上述清洗组成物，包括：一寡聚型或高分子型聚胺；至少一润湿剂；一pH调节剂；以及一溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 组成 | ||
【主权项】：
暂无信息
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