[发明专利]一种用于真空环境下测量光学元件面形的装置及方法有效
| 申请号： | 202110573545.1 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN113281013B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 周敏康;罗覃;马肖杰;张恒;陈乐乐;胡忠坤 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J9/00;G01J9/02 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 廖盈春;曹葆青 |
| 地址： | 430074 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于真空环境下测量光学元件面形的装置及方法，装置包括真空腔体、调节单元、真空测量单元和面形测量单元，真空腔体用于及安装调节单元和光学元件，并提供真空环境；调节单元用于安装光学元件，以及实现测试元件的水平移动和俯仰调节；光学元件包含参考反射镜和待测光学元件，参考反射镜用于提供高质量的面形参考，待测光学元件是需要被测量的光学元件；真空测量单元用于测量真空腔体的真空度；面形测量单元用于测量激光波前。该装置可以对安装在真空环境中的光学元件面形进行测量，并且可以改变真空腔体的压强，在不同压强下测量光学元件面形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 环境 测量 光学 元件 装置 方法 | ||
【主权项】：
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