[发明专利]一种磁纳米温度测量方法及系统在审
| 申请号： | 202110575560.X | 申请日： | 2021-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN113280940A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 刘文中;李壮壮;易文通;朱旖雯;杜中州 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01K7/36 | 分类号： | G01K7/36 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 祝丹晴 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种磁纳米温度测量方法及系统，属于磁光测试技术领域，包括：S1、测量磁纳米涂层的磁光克尔角；其中，磁纳米涂层置于待测区域上；磁纳米涂层的居里温度大于待测区域的温度；S2、基于磁纳米涂层的磁光克尔角与磁化强度的线性关系，得到磁纳米涂层的磁化强度；S3、基于居里外斯定律，根据磁纳米涂层的磁化强度，计算得到磁纳米涂层的温度，即待测区域的温度。本发明为非接触式、非侵入式测量，且其中测量磁纳米涂层的磁光克尔角所用的光不限于红外光，也可以是可见光，可以根据不同的测量场景进行选取，能够在不同特殊环境下对待测区域进行非侵入式的温度测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 温度 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110575560.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
