[发明专利]蚀刻液的评估方法有效

专利信息
申请号: 202110578218.5 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113341070B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 赵文群;秦文;谭芳 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00;C23F1/02
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种蚀刻液的评估方法,具体包括:在第一基板上形成第一膜层。在第一膜层上形成第二膜层。在第二膜层上形成具有预设图案的第一蚀刻阻挡层。对第二膜层进行蚀刻以暴露出第一膜层。使用待测蚀刻液对第一膜层进行蚀刻以得到第一膜层的实际蚀刻图案。获取实际蚀刻图案的实际蚀刻参数。预设第一膜层的参考蚀刻图案,获取参考蚀刻图案的参考蚀刻参数。比较参考蚀刻参数与实际蚀刻参数,以评估待测蚀刻液。本申请提供的蚀刻液的评估方法可以提高蚀刻液的开发效率,避免了资源浪费。
搜索关键词: 蚀刻 评估 方法
【主权项】:
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