[发明专利]一种皮秒碳化硅漂移阶跃恢复二极管在审

专利信息
申请号: 202110579210.0 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113380874A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 张景文;刘静楠;时明月;王燕;张恒清;侯洵 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/16;H01L29/861
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 朱海临
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种皮秒碳化硅漂移阶跃恢复二极管,包括原胞结构,原胞结构自下而上依次包括N型欧姆接触电极、N型掺杂阴极区、N型掺杂Buffer层、P型基区、P型掺杂区、P型掺杂阳极区和P型欧姆接触电极,P型基区掺杂浓度为1*1015‑5*1016cm‑3、厚度为0.25μm‑1μm,通过采用高浓度掺杂P型基区,能够有效减小DSRD器件的开关时间和正向导通压降,厚度为0.25μm‑1μm,有效提高了二极管的击穿特性,P型基区与P型重掺杂阳极区之间为P型掺杂区,可以增加P型基区电离受主的数量以补偿其中的非平衡空穴,从而使少子在基区中积累,减小输出脉冲的“预脉冲”电压,进而减小器件的功率损耗。本发明使用的DSRD器件结构只需改变外延时的掺杂参数,无需开发新的工艺方法。
搜索关键词: 种皮 碳化硅 漂移 阶跃恢复二极管
【主权项】:
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