[发明专利]一种多孔铜箔及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110582482.6 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN113265685A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 吴中和;吴庆锋;刘秀苗 申请(专利权)人: 益阳市菲美特新材料有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04;C25D1/08;C25D1/20;C25D3/38
代理公司: 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 代理人: 徐新
地址: 413000 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种多孔铜箔及其制备方法,所述多孔铜箔的厚度5‑100um、孔密度30‑1000目、孔结构为经纬布置结构、抗拉强度20‑150MPa。本发明还提供一种所述多孔铜箔的制备方法,工艺路线为:将导电基材经电镀铜、烧结还原、压延制得超薄多孔铜箔。本发明之多孔铜箔,较传统铜箔拥有更大的比表面积,散热性能有较大的性能提升,可以很好的代替传统散热铜箔而被应用在手机等3C智能产品,并可减少金属铜的消耗;因为是多孔结构,在同等体积下释放出来了更多的体积空间,进而可以增加更多的填充物,实现性能的提升;因其有规则的孔型结构,可以起到较好的均气、均热、均流的作用。
搜索关键词: 一种 多孔 铜箔 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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