[发明专利]一种高纯钽旋转靶材及其制备方法在审
申请号: | 202110590202.6 | 申请日: | 2021-05-28 |
公开(公告)号: | CN113308671A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 原慷;彭浩然;张鑫;颜正;庞小肖;许贞元;卢晓亮 | 申请(专利权)人: | 矿冶科技集团有限公司;北矿新材科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C4/134;C23C4/08;B22F9/14;B22F1/00;C23C4/14;C23C4/16 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;李闯 |
地址: | 100160 北京市丰台区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种高纯钽旋转靶材及其制备方法,该制备方法是采用感应等离子球化工艺制备出高纯球形钽粉,然后以所述高纯球形钽粉为喷涂原料,采用低压等离子喷涂工艺在旋转基体表面制备出高纯钽涂层,从而即制得高纯钽旋转靶材。本发明不仅工艺难度小,不受旋转基体材质、尺寸限制,大大提高了钽旋转靶材喷涂适用性,而且容易通过调节喷涂时间对旋转靶材厚度精确控制,无需复杂的后热处理工艺,旋转靶材成品率极高,降低了旋转靶材的制造难度和制造成本。本发明所制得的高纯钽旋转靶材具有纯度高、氧含量低、涂层厚度均匀可控、致密度高的特点,适用于高纯钽溅射薄膜的制备应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 高纯 旋转 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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