[发明专利]一种具有红外高折射率低色散的超材料及其制备方法有效
| 申请号： | 202110591053.5 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113249700B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 高俊华;王鑫鹏;曹鸿涛;胡海搏;汪湾 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;G02B1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 曹兆霞 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种具有红外高折射率低色散的超材料，包括金属纳米线阵列和介质层，金属纳米线阵列垂直嵌入到介质层；金属纳米线阵列由多个金属纳米线组成，金属纳米线直径不小于2nm，长度与介质层厚度相同，金属纳米线之间的间距为1‑6nm；金属纳米线在所述超材料的体积百分数为5％‑50％；介质层为半导体或陶瓷介质。该超材料具有较高的折射率和较低色散，本发明还公开了一种具有红外高折射率低色散的超材料的制备方法，包括：预处理衬底；选取金属，陶瓷或半导体分别作为共溅射靶材，进行多靶磁控共溅射，同时施加等离子体轰击辅助，制得金属纳米线阵列‑陶瓷或半导体复合层超材料。该制备方法操作简单、高效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 红外 折射率 色散 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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