[发明专利]一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法在审

专利信息
申请号: 202110600322.X 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113331913A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 陈永吉;陈文钰 申请(专利权)人: 博恩美荟剥离美学(深圳)有限公司
主分类号: A61B17/32 分类号: A61B17/32;A61M35/00;A61L2/18
代理公司: 深圳市壹壹壹知识产权代理事务所(普通合伙) 44521 代理人: 阮帆
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法,包括以下步骤:步骤一,面部清洁;步骤二,局部麻醉;步骤三,多点定位;步骤四,消毒杀菌;步骤五,器材消毒;步骤六,浅层剥离;步骤七,深层剥离;步骤八,面部消肿;步骤九,术后修复,本发明通过分别在皮肤的浅层和深层进行剥离刺激,实现了多层次的刺激修复,并且通过定位点的设置,实现了定点定位的刺激修复,剥离之前对皮肤进行清洁,并且对剥离区域进行两次消毒,同时对剥离微针同样进行消毒杀菌,降低了剥离后皮肤感染的风险,通过在术后定时周期性的涂覆ACMETEA和皮肤保湿修护敷料,并且在术后7‑10d之后敷含有玻尿酸的面膜,有利于缩短术后恢复周期。
搜索关键词: 一种 印第安 多点 深层 定位 剥离 祛除 方法
【主权项】:
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