[发明专利]一种鳍式场效应晶体管标准单元结构在审
申请号: | 202110600440.0 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113394215A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 李勇 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L27/092 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种鳍式场效应晶体管标准单元结构,涉及半导体集成电路结构,包括多个有效鳍区域,每一有效鳍区域包括多条有效鳍,多条有效鳍同方向排列;至少一个虚拟鳍区域,虚拟鳍区域包括多条虚拟鳍,多条虚拟鳍同方向排列,并虚拟鳍区域将两相邻有效鳍区域隔开;多条多晶硅,多条多晶硅同方向排列,并与有效鳍和虚拟鳍交叉,其中多晶硅与有效鳍的交叉区域形成鳍式场效应晶体管的栅极区域;其中两相邻有效鳍之间的间距为a,两相邻虚拟鳍之间的间距为b,并b小于a,以减小鳍式场效应晶体管标准单元的面积。 | ||
搜索关键词: | 一种 场效应 晶体管 标准 单元 结构 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的