[发明专利]基于两阶段掩码指导的生成对抗网络人脸校正方法及系统有效
| 申请号： | 202110603035.4 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113255788B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 刘芳;李任鹏;李玲玲;焦李成;黄欣研;刘旭;陈璞华;李硕 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G06V40/16 | 分类号： | G06V40/16;G06V10/774;G06V10/82;G06V10/764;G06N3/0464;G06N3/094;G06N3/0475;G06N3/0455 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 高博 |
| 地址： | 710071 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于两阶段掩码指导的生成对抗网络人脸校正方法及系统，构造并训练基于侧脸五官掩码图像生成其正脸五官掩码图像的生成对抗网络，该网络包含生成器和判别器；构造并训练基于正脸五官掩码图像指导生成正脸图像的生成对抗网络，该网络包含生成器、判别器和人脸特征提取器网络；输入侧脸图像至第一阶段网络生成正面化五官掩码图像，级联侧脸图像和生成的正面化五官掩码图像输入至第二阶段网络生成正脸图像；本发明将人脸校正划分为两阶段任务，第一阶段从侧脸五官掩码图像生成正脸五官掩码图像，第二阶段使用生成的正脸五官掩码图像指导生成正脸图像，使得生成的正脸图像在五官局部区域上能够与真实的正脸图像保持较好的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 阶段 掩码 指导 生成 对抗 网络 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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