[发明专利]一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备在审
申请号: | 202110605088.X | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN115480453A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 蒋晓黎;侯宝路 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备。其中积分均匀性补偿方法包括:获取整个视场的光强数据;根据光强数据,计算光场的积分均匀性;根据积分均匀性,计算均匀性需求的第一补偿量;根据成像单元的成像关系,计算均匀性需求的第二补偿量;根据第一补偿量和第二补偿量计算补偿版的形貌;根据补偿版的形貌制备补偿版,并将补偿版插入曝光系统中进行积分均匀性补偿。本发明实施例提供的积分均匀性补偿方法可以简化补偿过程,确保积分均匀性补偿的可靠性,降低补偿成本,提高各拼接视场积分均匀性的一致性,确保各视场均在最佳积分均匀性下曝光,提高产品制造质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 积分 均匀 补偿 方法 装置 光刻 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110605088.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:检测杯架、检测设备及杯内液体的检测方法
- 下一篇:半导体封装方法