[发明专利]掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质在审
| 申请号： | 202110605090.7 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113221499A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 陈小海 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种掩膜版图生成方法、装置、计算机设备及存储介质，涉及显示技术领域。其中，掩膜版图生成方法，包括：获取待设计的目标掩膜所对应的产品的特征信息，获取所确定的生产线信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，根据生产线信息获取对应生产线上的玻璃基板的基板信息，根据基板信息、初始掩膜信息、以及掩膜生成参数，建立玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，根据特征信息和玻璃基板坐标系与掩膜坐标系之间的关系，确定待设计的目标掩膜所对应的基本构成单元，根据基本构成单元生成目标掩膜版图。本发明实施例自动实现生成掩膜版图，提高掩膜版图的生成效率，提高设计掩膜版图的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 生成 方法 装置 计算机 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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