[发明专利]一种制备周期可调的双周期纳米光栅图形的光刻结构

摘要

本发明涉及一种周期可调的双周期纳米光栅图形制备的光刻结构。所述的光刻结构包括周期性金属光栅掩模、双曲超材料层、光刻胶层、金属薄层和衬底层，所述的双曲超材料层由周期性的金属‑介质多层膜组成。双曲超材料中金属厚度的占空比影响光线在超材料中的传播方向，通过调节金属厚度的占空比，可在光刻胶中生成双周期纳米图形，实现周期可调的双周期纳米光栅图形的制备。本发明提出的超分辨光刻结构，可获得周期可调的双周期纳米光栅图形，生成的图形具有高均匀性和高对比度。