[发明专利]一种适用于硅片单面抛光的柔性研磨头在审
| 申请号： | 202110614400.1 | 申请日： | 2021-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN113305734A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 袁保军;贺贤汉;范威秋;陆春生;叶国卿 | 申请（专利权）人： | 上海汉虹精密机械有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/12 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 陆叶 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨技术领域。一种适用于硅片单面抛光的柔性研磨头，包括主动盘，主动盘的中央开设有与旋转主轴相连的安装孔；还包括过渡盘，过渡盘的中央通过轴承与旋转主轴相连，过渡盘与主动盘传动连接，且过渡盘与主动盘之间安装有周向排布的弹簧；还包括研磨盘，研磨盘的外边缘通过柔性带与过渡盘的外边缘相连，研磨盘的中央通过关节轴承与旋转主轴相连。本专利通过增加过渡盘，并使用柔性材料，进行连接传动，避免了传统硬连接方式，对加工产品的影响，提高产品的质量。旋转过程中，旋转主轴带动主动盘旋转，主动盘带动过渡盘旋转，过渡盘通过柔性带带动研磨盘旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 硅片 单面 抛光 柔性 研磨 | ||
【主权项】：
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