[发明专利]一种强约束高速射流抛光装置在审

专利信息
申请号: 202110614709.0 申请日: 2021-06-02
公开(公告)号: CN113183043A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 袁巧玲;常空辉;葛江涛 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24C3/04 分类号: B24C3/04;B24C5/04;B24C9/00
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中
地址: 310000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种强约束高速射流抛光装置,包括整体机架、运动部分、箱体、加工部分和工件底座;所述整体机架由铝型材和铝型材连接件搭建而成,整体机架构成整个装置的支撑部分;所述箱体固定在机架四周,箱体构成加工过程中的抛光液收集箱;对加工之后的抛光液进行引流并收集;所述工件底座固定在整体机架内部的箱体中,工件底座对工件进行夹持;所述运动部分固定在箱体上方的整体机架上,加工部分通过螺栓固定在运动部分上;加工部分设置在工件底座的正上方,加工部分的下端正对工件底座上的工件;公开了本发明结构简单、成本低、对压力要求较低、可适用于不同材质、形状的工件表面抛光,喷嘴具有较强的可替换性。
搜索关键词: 一种 约束 高速 射流 抛光 装置
【主权项】:
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