[发明专利]一种具有多层结构的纳米阵列材料、其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202110616831.1 | 申请日： | 2021-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN113355686B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 林贻超;武斌;张秋菊;陈亮 | 申请（专利权）人： | 宁波材料所杭州湾研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C25B11/031 | 分类号： | C25B11/031;C25B11/053;C25B11/061;C25B11/091;C25B1/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王茹;王锋 |
| 地址： | 315000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有多层结构的纳米阵列材料、其制备方法与应用。所述具有多层结构的纳米阵列材料包括：第一结构层，包括具有电子传输作用的呈纳米阵列结构的Ni |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 多层 结构 纳米 阵列 材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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